Санкт-Петербург / AbsolutTV.ru / Новости / Китай готов ответить на санкции США самым передовым литографом для создания чипов в 2-нанометра. Как сообщает South China Morning Post, Китай планирует разработать передовой литограф, который будет работать на ускорителе частиц. Университет Цинхуа уже проводит переговоры с властями нового района Сюнган о выборе места для строительства ускорителя частиц. Планируется построить ускоритель с длиной контура 100-150 метров, который будет использоваться для производства очень "тонких" чипов.

Китайский проект отличается от подхода мирового лидера в производстве литографов, нидерландской компании ASML. Вместо уменьшения размеров машин для изготовления чипов, китайцы планируют построить огромную фабрику, на которой будут размещены несколько литографических машин вокруг одного ускорителя. Такой подход позволит обеспечить массовое и дешевое производство чипов.

В настоящее время производство 7-нанометровых чипов осуществляется с использованием EUV-литографии, и компания ASML является лидером на рынке. Однако китайский проект предлагает альтернативный подход с использованием технологии устойчивого микрогруппирования (SSMB). Эта технология позволяет использовать энергию заряженных частиц в качестве источника излучения с узким рассеянием. SSMB обеспечивает высококачественное излучение от терагерцевых волн до волн EUV.

Хотя создание работающего SSMB-литографа займет некоторое время, ученые считают, что это альтернатива санкционным технологиям. Для создания пригодной к использованию системы литографии требуются постоянные технологические инновации на основе источников света SSMB и сотрудничество с добывающими и перерабатывающими предприятиями.